フッ酸が産業界で重宝される最大の理由は、他の強酸ではびくともしない「ガラス（二酸化ケイ素：SiO2）を容易に溶かす」という極めて特異な化学的性質にあります。
二酸化ケイ素とフッ酸が反応すると、ヘキサフルオロケイ酸や四フッ化ケイ素といった可溶性化合物が生成されます。その代表的な化学反応式は以下の通りです。
SiO2 + 6HF → H2SiF6（ヘキサフルオロケイ酸） + 2H2O
この反応性があるため、一般的な薬品のようにガラス瓶でフッ酸を保管することは絶対に不可能です。ガラス容器に入れると内側から溶かされて容器に穴が開き、漏洩事故を引き起こします。そのため、フッ酸の保管容器にはポリエチレン（PE）やポリプロピレン（PP）、あるいは耐薬品性に優れたテフロン（PTFE）などのフッ素樹脂製ボトルが厳密に指定されています。
この「ケイ素化合物を溶かす性質」が国家規模のキーテクノロジーとなっているのが、半導体製造におけるエッチング用途およびウェハー洗浄です。シリコン基板上の不要な酸化膜をナノメートル単位で精密に削り取る（エッチングする）工程において、超高純度のフッ化水素・フッ酸は代替不可能な必須材料となっています。日本企業が世界市場で圧倒的なシェアと技術的優位を保ち続けている背景には、この極限まで不純物を排除した超高純度フッ化水素酸の精製ノウハウが存在します。
